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CSCILi J, 1993, Chem Phys Lett, V203, P540; TENG CC, 1983, PHYS REV LETT, V50, P350, DOI 10.1103/PhysRevLett.50.350; XIE YM, 1991, CHEM PHYS LETT, V179, P563, DOI 10.1016/0009-2614(91)87104-J3477896883257化学物理学报251在本文之中,我们预言并应用精确的量子化学abinitio方法首次对NLin结构的稳定性,结合能及非线性光学电极化率性质进行了计算,计算结果表明:随着Li的个数的增加,N—Li键的作用减弱,Li-Li键的作用增强,结合能有逐渐减小的趋势(n<6),NLi6比NLi5结构稳定性强的原因是金属Li-Li之间的成键相互作用的贡献。1995REORTSOMCNK565期刊论文NLi_n化合物分子结构及非线性光学电极化率的AB INITIO计算研究chi电极化率;AB;INITIO;NLi_n;非线性光学;量子化;布居数;化合物分子;结构稳定性;点群;韩聚广;姜中宏;范康年;刘凡镇 CSCD:273516
中文题目: NLi_n化合物分子结构及非线性光学电极化率的AB INITIO计算研究
作者: 韩聚广;姜中宏;范康年;刘凡镇
刊名: 化学物理学报
年: 1995 卷: 8 期: 3 页: 251--257
中文关键词:
电极化率;AB;INITIO;NLi_n;非线性光学;量子化;布居数;化合物分子;结构稳定性;点群;
中文摘要:
文献类型: 期刊论文
正文语种: chi
收录类别: CSCI  
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